欠陥検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：古谷史旺 , 鈴木榮祐
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-036396
公開番号（公開出願番号）：特開2001-228097
特許番号：特許第4419250号
出願日： 2000年02月15日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】繰り返しパターンが形成された被検基板を照明する照明光学系と、前記被検基板から発生する特定次数の回折光を受光する受光光学系と、前記受光光学系により得られた前記被検基板の像に基づいて前記被検基板の欠陥の有無を判断する画像処理部とを備え、前記照明光学系と前記受光光学系との少なくとも一方は、偏心光学系を含み、前記偏心光学系の収差に起因して、前記回折光の進行方向と前記受光光学系の光軸との間に所定の第1の角度ずれが生じる欠陥検査装置であって、前記照明光学系と前記受光光学系とは開口数が異なり、前記照明光学系と前記受光光学系との開口数の差の絶対値は、前記第1の角度ずれの量以上の値であることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (2件)：