特許
J-GLOBAL ID：201103082354396530

レーザーアブレーションICP分析法を用いた貴金属の分析方法

発明者：
上村 憲一

上村 憲一 について


出願人/特許権者：
JX日鉱日石金属株式会社

JX日鉱日石金属株式会社 について


代理人 (1件)： アクシス国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-262178
公開番号（公開出願番号）：特開2011-106961
出願日： 2009年11月17日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：
【課題】迅速且つ精確に定量分析でき、定量操作が容易な、レーザーアブレーションICP分析法を用いた貴金属の分析方法を提供する。【解決手段】貴金属を含む試料を秤量する工程S11と、試料に融剤を調合する工程S12と、融剤を調合させた試料を融解させる工程S13と、融解した試料から鉛ボタンを形成する工程S14と、鉛ボタンにレーザー光を照射して鉛ボタンの一部を微粒子にするアブレーション工程S151と、微粒子をヘリウム(He)ガスによりICP分析装置内へ搬送し(S152)、微粒子をイオン化させて分析するICP分析工程S153とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
貴金属を含む試料を秤量する工程と、 前記試料に融剤を調合する工程と、 前記融剤を調合させた前記試料を融解させる工程と、 融解した前記試料から鉛ボタンを形成する工程と、 前記鉛ボタンにレーザー光を照射して前記鉛ボタンの一部を微粒子にするアブレーション工程と、 前記微粒子を不活性ガスによりICP分析装置内へ搬送し、前記微粒子をイオン化させて分析するICP分析工程と を備えることを特徴とするレーザーアブレーションICP分析法を用いた貴金属の分析方法。
IPC (3件)：
G01N 1/28 ,  G01N 21/73 ,  G01N 27/62
FI (4件)：
G01N1/28 T ,  G01N21/73 ,  G01N27/62 F ,  G01N27/62 G
Fターム (24件)：
2G041CA01 ,  2G041DA14 ,  2G041EA01 ,  2G041FA16 ,  2G041JA16 ,  2G043AA01 ,  2G043BA01 ,  2G043CA05 ,  2G043DA01 ,  2G043DA02 ,  2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043NA11 ,  2G052AA11 ,  2G052AD32 ,  2G052AD42 ,  2G052CA03 ,  2G052CA04 ,  2G052CA14 ,  2G052FD07 ,  2G052GA15 ,  2G052GA24 ,  2G052JA07 ,  2G052JA09
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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