特許
J-GLOBAL ID:201103082960895860

静電マイクロアクチュエータの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-183753
公開番号(公開出願番号):特開2001-009798
特許番号:特許第3210968号
出願日: 1999年06月29日
公開日(公表日): 2001年01月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定の基板上に形成する工程と、前記薄膜をエッチングすることにより渦巻状の平面電極を形成する工程と、前記平面電極を前記非晶質材料の過冷却液体域まで加熱し、前記平面電極を立体的に変形させて螺旋状の駆動電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする、静電マイクロアクチュエータの製造方法。
IPC (3件):
B81C 1/00 ,  B66F 1/00 ,  B81B 3/00
FI (3件):
B81C 1/00 ,  B66F 1/00 ,  B81B 3/00
引用特許:
審査官引用 (3件)

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