特許
J-GLOBAL ID:201103083018829394

フェニルシクロヘキシル化合物、液晶材料、液晶組成物、および液晶素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中嶋 重光 ,  山口 和
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-122064
公開番号(公開出願番号):特開2000-309563
特許番号:特許第4553418号
出願日: 1999年04月28日
公開日(公表日): 2000年11月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 次式(I)で表される化合物であるフェニルシクロヘキシル化合物。 R1-X1-A1-X2-A2-COO-C*H(CF3)-R2 ... (I) (式 (I)において、R1は炭素数1から20のアルキル基、およびこれらの基中に存在する1個または2個以上の-CH2-が、-O-および/またはハロメチレン基で置換された基(ただし、-O-同士が隣接するものは除く)から選ばれる1種の基を表し、 X1は、-O-を表し、A1は、 を表し、X2は、-COO-を表し、A2は を表し(nは0〜2の整数を表す。)、 R2は-(CH2)aO(CH2)bH(a=1〜4、b≧1)で表されるアルコキシアルキル基を表し、C*は不斉炭素を表す。)
IPC (5件):
C07C 69/753 ( 200 6.01) ,  C07C 69/76 ( 200 6.01) ,  C07C 69/88 ( 200 6.01) ,  C09K 19/30 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01)
FI (5件):
C07C 69/753 D ,  C07C 69/76 ,  C07C 69/88 ,  C09K 19/30 ,  G02F 1/13 500
引用特許:
審査官引用 (9件)
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