特許

J-GLOBAL ID：201103083240466372

ガス噴射ヘッド及びCVD装置

発明者： 鈴木 秀直 ,  塚本 究 ,  柴崎 光直 ,  佐藤 等
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (2件)： 熊谷 隆 ,  高木 裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-287097
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097576
特許番号：特許第3980821号
出願日： 2000年09月21日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ガス噴射ヘッド本体に複数のガス噴出しノズルを有するガス噴射ヘッドにおいて、 前記ガス噴出しノズルは、ガスを噴出す内径0.5mm以下の細管部と該細管部の外周部に設けたビス部とを溶接又はロウ付け又はカシメにより一体的に接合した構成の第1ガス噴出しノズルと、ガス噴射ヘッドに導入される複数種のガスに対応して前記第1ガス噴出しノズルの細管部の外周に同心状に配置される複数の細管部と該複数の細管部のそれぞれの外周部に設けたビス部とを溶接又はロウ付け又はカシメにより一体的に接合した構成の複数の第2ガス噴出しノズルを有し、 前記第1ガス噴出しノズルと前記複数の第2ガス噴射しノズルのビス部をそれぞれ前記ガスヘッド本体に形成されたネジ部にネジ込んで構成したことを特徴とするガス噴射ヘッド。

IPC (2件)：

C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-122281
  
• スパッタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-000029   出願人：ソニー株式会社
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-045336   出願人：日本電気株式会社