特許
J-GLOBAL ID：201103083333884174

光干渉装置及び位置検出装置

発明者：
加藤 成樹

加藤 成樹 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-391425
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249003
特許番号：特許第4593768号
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光源と、前記光源から出射された光束を集光光束にする集光レンズと、前記集光光束を分離して2つの分離光束を形成するスプリット面及び前記スプリット面で分離された一方の分離光束の集光位置に設けられ前記一方の分離光束を反射して光路を逆進させる参照面とを備える光学部材と、を有し、前記参照面で反射された前記一方の分離光束と前記光学部材から出射して前記スプリット面で分離された他方の分離光束の集光位置に設けられた被検物体で反射して戻った他方の分離光束とを前記スプリット面によって合波し、前記合波された合波光束を干渉光束として用いる光干渉装置であって、 前記参照面で反射して光路を逆進した前記一方の分離光束と前記被検物体で反射して戻った前記他方の分離光束とが曲率の等しい球面波として前記スプリット面で合波するように、前記他方の分離光束の集光状態又は発散状態を変更する光学素子を前記他方の分離光束の光路中に配置したことを特徴とする光干渉装置。
IPC (2件)：
G01B 9/02 ( 200 6.01) ,  G01B 11/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G01B 9/02 ,  G01B 11/00 G
引用特許：
審査官引用 (4件)
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