特許
J-GLOBAL ID：201103084901073620
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-295392
公開番号（公開出願番号）：特開2011-135004
出願日： 2009年12月25日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：
【課題】第1反応ガスと第2反応ガスとの混合を抑制する分離ガスによって第1及び第2反応ガスが希釈されるのを低減できる成膜装置を提供する。【解決手段】本成膜装置は、基板載置領域を一の面に含む回転テーブル;容器内の第1供給領域に配置され、一の面へ第1反応ガスを供給する第1反応ガス供給部;第2供給領域に配置され、一の面へ第2反応ガスを供給する第2反応ガス供給部;第1及び第2反応ガスを分離する分離ガスを吐出する分離ガス供給部と、分離ガス供給部からの分離ガスを第1及び第2の供給領域へ向けて供給する分離空間を形成する天井面とを含み、第1及び第2供給領域の間に配置される分離領域;第1及び第2供給領域に設けられる第1及び第2排気口;を備え、第1及び第2排気口の少なくとも一方が、対応する供給領域へ向かって分離領域から供給される分離ガスを、反応ガス供給部が延びる方向に沿った方向に導くように配置される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
容器内にて、互いに反応する少なくとも2種類の反応ガスを順番に基板に供給する供給サイクルを複数回実行することにより、反応生成物の複数の層を積層して薄膜を形成する成膜装置であって、
前記容器内に回転可能に設けられ、基板が載置される基板載置領域を第1の面に含む回転テーブル;
前記容器内の第1の供給領域に配置され、前記回転テーブルの回転方向と交わる方向に延び、前記回転テーブルの前記第1の面へ第1の反応ガスを供給する第1の反応ガス供給部;
前記第1の供給領域から前記回転テーブルの前記回転方向に沿って離間する第2の供給領域に配置され、前記回転方向と交わる方向に延び、前記回転テーブルの前記第1の面へ第2の反応ガスを供給する第2の反応ガス供給部;
前記第1の反応ガスと前記第2の反応ガスとを分離する分離ガスを吐出する分離ガス供給部と、該分離ガス供給部からの前記分離ガスを前記第1の供給領域及び前記第2の供給領域へ向けて供給する、前記第1の面との間に所定の高さを有する分離空間を形成する天井面とを含み、前記第1の供給領域と前記第2の供給領域との間に配置される分離領域;
前記第1の供給領域に対して設けられる第1の排気口;及び
前記第2の供給領域に対して設けられる第2の排気口;
を備え、
前記第1の排気口及び前記第2の排気口の少なくとも一方の排気口が、当該排気口に対応する供給領域へ向かって前記分離領域から供給される前記分離ガスを、当該供給領域の反応ガス供給部が延びる第1の方向に沿う方向に導くように配置される成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (34件)：
4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030BA10
, 4K030BA22
, 4K030BA42
, 4K030BA43
, 4K030BA44
, 4K030BA46
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA04
, 4K030EA11
, 4K030FA10
, 4K030GA06
, 4K030JA03
, 4K030KA12
, 4K030KA41
, 4K030LA15
, 5F045AA06
, 5F045AA15
, 5F045AB32
, 5F045AC00
, 5F045AC07
, 5F045AC15
, 5F045AD07
, 5F045DP14
, 5F045DP27
, 5F045EE19
, 5F045EE20
, 5F045EF03
, 5F045EF14
, 5F045EF20
