高周波プラズマ処理方法及び高周波プラズマ処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：高橋省吾 , 稲葉忠彦 , 村上加奈子 , 中鶴一隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-246458
公開番号（公開出願番号）：特開2011-094164
出願日： 2009年10月27日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：

【課題】プラズマを利用して基板等に所定の処理を施す処理装置において、プラズマの状態にアーク放電のような異常放電がある場合に小電力環境でラジカルやイオンを消滅させることなく異常放電を解消することで、動作信頼性に優れ処理効率の良いプラズマ処理を実現する高周波プラズマ処理方法及び高周波プラズマ処理装置を得る。【解決手段】二つの電極61,62が所定の間隔あけて対向配置された真空容器5内に所定のガスを導入し、処理対象物7を前記二つの電極61,62の電極間に配置した状態で、真空容器5内が通常放電状態のときは高周波電源1からの高周波信号を、異常放電状態のときは前記高周波信号と前記高周波信号よりも周波数の低い中間周波数信号とで振幅変調したものを出力し、その出力の最大振幅レベルを所定の振幅に増幅させて前記電極間に印加することにより、放電を発生させてプラズマ14を形成し前記処理対象物7に所定の処理を施す。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

二つの電極が所定の間隔あけて対向配置された真空容器内に所定のガスを導入し、処理対象物を前記二つの電極の電極間に配置した状態で、高周波電源から入力される高周波信号を用いて第一の放電供給信号生成ステップで出力される信号の最大振幅レベルを所定の振幅に増幅させて前記電極間に印加することにより、前記電極間に放電を発生させてプラズマを形成し前記処理対象物に所定の処理を施す高周波プラズマ処理方法であって、前記第一の放電供給信号生成ステップは、前記真空容器内が通常放電状態のときは前記高周波信号を、異常放電状態のときは前記高周波信号と前記高周波信号よりも周波数の低い中間周波数信号とで振幅変調した信号を出力することを特徴とする高周波プラズマ処理方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 , H05H 1/00 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C14/34 U , H05H1/00 A , H05H1/46 M , H05H1/46 R

Fターム (5件)：

4K029DC29 , 4K029DC33 , 4K029DC35 , 4K029DC39 , 4K029EA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

ITO透明導電膜の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-052255 出願人：アネルバ株式会社
電力信号を変調してスパッタリングを制御するためのシステムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-165117 出願人：アプライドフィルムズコーポレイション
特開昭61-001023

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