特許
J-GLOBAL ID：201103085101219177

電気光学装置の製造方法

発明者：
村井 一郎

村井 一郎 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194940
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015140
特許番号：特許第4023111号
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1の基板上は画素電極及び前記画素電極に接続された画素スイッチング用素子とからなる画素がマトリックス状に配置されてなる画素表示領域と、前記画素表示領域の周辺に配置されて前記複数の画素を駆動する駆動回路用スイッチング素子からなる駆動回路形成領域と、前記駆動回路形成領域の周辺に配置されたシール領域とを具備し、 前記第1の基板に対して所定の間隔を介して前記シール領域に配置されたシール材で貼り合わされた第2の基板と、 前記シール材で区画された間隙内に保持された電気光学物質と、前記シール材で区画された領域内で前記第1の基板と前記第2の基板との間に介在して当該基板間の間隙を制御するギャップ材とを有し、前記各画素は光反射領域を備えて反射モード表示可能である電気光学装置の製造方法において、 前記第1の基板上に前記画素スイッチング用素子と前記駆動回路用スイッチング素子とを形成する工程と、 前記画素の光反射領域及び前記駆動回路形成領域の上に第1の樹脂層を形成し、前記第1の樹脂層をパターニングして、前記光反射領域に凹凸層形成するとともに、前記駆動回路形成領域上に前記第1の樹脂を残す工程と、 前記画素の光反射領域及び前記駆動回路形成領域の上に第2の樹脂層を形成し、前記光反射領域に前記第2の樹脂層を残すとともに、前記駆動回路形成領域のうち、前記駆動回路用スイッチング素子が形成されている領域の前記第2の樹脂層を除去し、前記駆動回路用スイッチング素子が形成されていない領域に第2の樹脂層を残す工程と、 を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (6件)：
G02F 1/1335 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1368 ( 200 6.01) ,  G09F 9/00 ( 200 6.01) ,  G09F 9/30 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01)
FI (8件)：
G02F 1/133 520 ,  G02F 1/136 ,  G09F 9/00 348 C ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 349 D ,  G09F 9/30 349 Z ,  H01L 29/78 627 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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