液処理装置および液処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204170
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017401
特許番号：特許第3704064号
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に対して所定の液処理を施す液処理装置であって、略水平姿勢に保持された基板に第1の処理液を塗布する第1液処理部と、前記第1の処理液が塗布された基板から前記第1の処理液を除去する第2液処理部と、前記第1液処理部から前記第2液処理部へ前記第1の処理液の塗布された基板を略水平姿勢で一方向に搬送する基板搬送機構と、を具備し、前記第2液処理部は、前記第1の処理液が塗布された基板の一端を持ち上げて前記基板を傾斜姿勢に変換することによって前記基板に塗布された第1の処理液を液切りする基板傾斜機構と、前記基板傾斜機構によって傾斜姿勢に保持された基板から前記第1の処理液の残渣を流し出す第2の処理液を前記基板に吐出する処理液吐出ノズルと、前記処理液吐出ノズルを前記基板傾斜機構によって傾斜姿勢に保持された基板の表面に沿って斜めに移動させるノズル移動機構と、を有することを特徴とする液処理装置。

IPC (10件)：

H01L 21/027 , B05B 13/04 , B05C 5/00 , B05C 13/02 , B05D 1/26 , B05D 3/00 , B65G 49/06 , G03F 7/30 , H01L 21/306 , H01L 21/68

FI (11件)：

H01L 21/30 569 D , B05B 13/04 , B05C 5/00 101 , B05C 13/02 , B05D 1/26 Z , B05D 3/00 C , B65G 49/06 Z , G03F 7/30 501 , H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J , H01L 21/306 J

引用特許：

出願人引用 (8件)

基板の処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-148021 出願人：スピードファムクリーンシステム株式会社
基板処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-046355 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-232435 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平4-196519
液処理装置の基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-126743 出願人：シャープ株式会社
基板表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-173300 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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