特許
J-GLOBAL ID：201103085825143610
ウエハーの表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中前 富士男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031455
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232086
特許番号：特許第4227694号
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理槽の中に複数枚の直立したウエハーを並行して装入し、前記ウエハーを前記処理槽の下部に設けた分散管から供給される洗浄用薬液とリンス用超純水とによって洗浄する表面処理装置であって、
前記分散管は、前記処理槽内に供給される前記洗浄用薬液に攪拌効果をもつ下降流を生じさせる薬液用分散管と、前記処理槽内に供給される前記リンス用超純水に均一上昇流を発生させる超純水用分散管とを有し、
前記薬液用分散管は、前記処理槽の両側壁に近づけて2本配置され、それぞれの前記薬液用分散管に設けた前記洗浄用薬液を噴き出す薬液ノズルは、前記処理槽の中心より外向きで斜め下に向けており、
前記超純水用分散管は、前記処理槽内に複数本配置され、それぞれの前記超純水用分散管に設けた前記リンス用超純水を噴き出す複数の超純水ノズルは、間隔を均等にして下方に向け、
しかも2本の前記薬液用分散管の間に複数の前記超純水用分散管が等間隔で配置されていることを特徴とするウエハーの表面処理装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L 21/304 642 F
, H01L 21/304 648 G
