特許
J-GLOBAL ID：201103086269924921

アルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物

発明者：
土居 陽彦

土居 陽彦 について

, 
内野 陽介

内野 陽介 について

, 
西本 和彦

西本 和彦 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-093248
公開番号（公開出願番号）：特開2011-240478
出願日： 2011年04月19日
公開日（公表日）： 2011年12月01日
要約：
【課題】研磨後の基板表面のうねりの低減を実現できるアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物等を提供する。【解決手段】本発明のアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物は、シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が1.5〜5.0L/gである。前記スルホン酸基を含有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を含有する重合体の重量平均分子量は、3000〜100000であると好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が1.5〜5.0L/gである、アルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物。
IPC (4件)：
B24B 37/00 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/73
FI (5件)：
B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  G11B5/84 A ,  G11B5/73
Fターム (14件)：
3C058AA07 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  5D006CB04 ,  5D006DA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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