特許
J-GLOBAL ID:200903023213933545

ガラス基板用研磨液組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-335791
公開番号(公開出願番号):特開2007-191696
出願日: 2006年12月13日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
【課題】高い研磨速度で優れた表面品質の基板を製造することができるガラス基板用研磨液組成物及びガラス基板の製造方法を提供すること。【解決手段】一次粒子の平均粒径が5〜50nmであるシリカと重量平均分子量が1,000〜5,000であるアクリル酸/スルホン酸共重合体とを含有してなる、pHが0.5〜5であるガラス基板用研磨液組成物、及び該研磨液組成物を研磨パッドと被研磨基板の間に存在させ、3〜12kPaの研磨荷重で該基板を研磨する工程を有するガラス基板の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
一次粒子の平均粒径が5〜50nmであるシリカと重量平均分子量が1,000〜5, 000であるアクリル酸/スルホン酸共重合体とを含有してなる、pHが0.5〜5であ るガラス基板用研磨液組成物。
IPC (2件):
C09K 3/14 ,  B24B 37/00
FI (3件):
C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H
Fターム (1件):
3C058DA02
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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