特許
J-GLOBAL ID：200903008252950997

ガラス基板用の研磨液組成物

発明者：
西本 和彦

西本 和彦 について

, 
大井 利昭

大井 利昭 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-185907
公開番号（公開出願番号）：特開2008-013655
出願日： 2006年07月05日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】高い研磨速度で低い表面粗さを有する優れた品質の基板を製造することができるガラス基板用の研磨液組成物及びガラス基板の製造方法を提供すること。【解決手段】平均粒径が5〜100nmのシリカ粒子を含有するガラス基板用の研磨液組成物であって、電子顕微鏡写真の画像解析により求められる該シリカ粒子の投影画像において、該シリカ粒子の投影面積(A1)と該シリカ粒子の最大内接円面積(A)との面積比R(A1/A)の平均値が1.2〜3.0の範囲にあり、pHが1〜5であるガラス基板用の研磨液組成物、該ガラス基板用の研磨液組成物を研磨パッドと被研磨基板の間に存在させ、3〜12kPaの研磨荷重、pHが1〜5で研磨する工程を有するガラス基板の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
平均粒径が5〜100nmのシリカ粒子を含有するガラス基板用の研磨液組成物であって、電子顕微鏡写真の画像解析により求められる該シリカ粒子の投影画像において、該シリカ粒子の投影面積(A1)と該シリカ粒子の最大内接円面積(A)との面積比R(A1/A)の平均値が1.2〜3.0の範囲にあり、pHが1〜5であるガラス基板用の研磨液組成物。
IPC (2件)：
C09K 3/14 ,  G11B 5/84
FI (3件)：
C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  G11B5/84 A
Fターム (5件)：
5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA14
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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