特許
J-GLOBAL ID：201103086462357457

光学系の特性を測定する方法及び装置

発明者：
マシュー イー ハンセン

マシュー イー ハンセン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.

エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191508
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035785
特許番号：特許第4220656号
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光学系内のベストフォーカス位置を決定するための方法において、 感光性基板を光軸に垂直な第1の面において第1の角度で傾斜することにより、光学系の焦点深度を第1位置において遮断し、 感光性基板を複数の異なる周期パターンで露光して、基板面を横断する第1露光バンドを形成し、 感光性基板を前記光学系の光軸に沿って既知の距離だけ第2位置までシフトし、 感光性基板を複数の異なる周期パターンで露光して、基板面を横断する第2露光バンドを形成し、 基板を横断して延在する第1及び第2の露光バンドの第1と第2の位置に基づいてベストフォーカスの位置を計算するよう構成された方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  G03F 7/207 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 526 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 7/207 H
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
  • 特開平3-155112
  • 特開平4-078126
  • テストパターンが形成されたレチクル
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-055011   出願人：株式会社ニコン
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