特許
J-GLOBAL ID:201103086593353040

薄膜積層装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-004237
公開番号(公開出願番号):特開2001-076743
特許番号:特許第4639415号
出願日: 2000年01月13日
公開日(公表日): 2001年03月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 連続する第1の薄膜に、連続する第2の薄膜を所定形状に切断した後に積層する薄膜積層装置であって、 前記第2の薄膜を吸引して積層位置まで搬送すると共に該第2の薄膜と前記第1の薄膜とを積層する搬送手段と、 該搬送手段の所定位置に前記第2の薄膜の搬送方向の先端部を固定する位置決め手段と、 前記搬送手段により前記積層位置まで搬送される前記第2の薄膜を前記所定形状に切断する切断手段と、を備え、 該切断手段は、前記位置決め手段によって搬送方向先端部が固定された状態で前記搬送手段により搬送される連続した第2の薄膜を分離切断して前記所定形状をなす第2の薄膜の切断後端部を形成する第1のカッターと、前記位置決め手段によって搬送方向先端部が固定された状態で前記搬送手段により引き続き搬送される前記分離切断された第2の薄膜の搬送方向先端部を切断して前記所定形状なす第2の薄膜を形成する第2のカッターとを含む、 薄膜積層装置。
IPC (2件):
H01M 8/02 ( 200 6.01) ,  H01M 8/10 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01M 8/02 E ,  H01M 8/10
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (16件)
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