特許
J-GLOBAL ID：201103086912907843
レジスト処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大西 健治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-278589
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100426
特許番号：特許第3721016号
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 レジストが塗布されるべき基板が配置された位置の側方に設けられ、レジストの廃液を回収する第1の回収路とリンス廃液を回収する第2の回収路とが上下方向に配置されてなるカップと、 前記第1の回収路を介して回収されたレジストの廃液が供給される粘度調整タンクと、 前記粘度調整タンクに対して溶剤を供給する溶剤タンクと、 前記粘度調整タンク内のレジスト液の粘度を測定する粘度計と、 前記粘度計の測定結果および前記粘度調整タンク内のレジスト液の温度に基づいて該レジスト液の樹脂濃度を算出し、算出した樹脂濃度と予め設定された樹脂濃度との差に基づいて該レジスト液に供給する溶剤量を決定する制御部と、 粘度調整されたレジストの異物を除去するフィルタとを有することを特徴とするレジスト処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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