特許
J-GLOBAL ID：201103087341058343

塗布膜の乾燥方法及び装置

発明者：
石塚 誠治

石塚 誠治 について

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中嶌 賢二

中嶌 賢二 について

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小林 寛修

小林 寛修 について

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柴田 敏夫

柴田 敏夫 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359392
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170547
特許番号：特許第4147370号
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、 前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面のみを囲むと共に、 前記乾燥ゾーンを前記長尺状支持体の走行方向に直交する複数の仕切板で仕切ることにより、乾燥風の流れをコントロールするための複数の分割ゾーンに分割し、 前記分割ゾーンごとに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
IPC (4件)：
B05C 9/14 ( 200 6.01) ,  B05D 3/02 ( 200 6.01) ,  F26B 13/00 ( 200 6.01) ,  G02B 5/30 ( 200 6.01)
FI (4件)：
B05C 9/14 ,  B05D 3/02 D ,  F26B 13/00 Z ,  G02B 5/30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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