特許
J-GLOBAL ID：201103088266499521
露光用マスク及びこの露光用マスクを用いた配線パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-019998
公開番号（公開出願番号）：特開2011-158689
出願日： 2010年02月01日
公開日（公表日）： 2011年08月18日
要約：
【課題】露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。【解決手段】露光に用いられ、露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線が並列に配置されているレジスト材料からなる配線パターンを形成するための露光用マスク19において、片側にのみ隣接する配線形成用マスク部分が存在する部分18a2の配線幅を、両側に隣接する配線形成用マスク部分が存在する部分18a1の配線幅よりも太くする。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
レジスト材料を露光して配線パターンを形成するために用いられ、露光装置の解像度に
よって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成さ
れている露光用マスクにおいて、
前記配線形成用マスク部分の幅を、前記配線形成用マスク部分の片側にのみ隣接する配
線形成用マスク部分が存在する部分では、前記配線形成用マスク部分の両側に隣接する配
線形成用マスク部分が存在する部分よりも太くしたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
