特許
J-GLOBAL ID:201103088958759744

ヘキサフルオロエタンの製造方法及びその用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人SSINPAT ,  柿沼 伸司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-185654
公開番号(公開出願番号):特開2002-003415
特許番号:特許第4463385号
出願日: 2000年06月21日
公開日(公表日): 2002年01月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 以下の2つの工程を含むことを特徴とするヘキサフルオロエタンの製造方法。 (1)分子内に塩素原子を含有する化合物を含むペンタフルオロエタンを、フッ素化触媒の存在下、フッ化水素と気相で反応させて、前記分子内に塩素原子を含有する化合物をフッ素化する工程 (2)前記(1)の工程で得られる、フッ素化された化合物を含むペンタフルオロエタンとフッ素ガスとを、気相で希釈ガスの存在下にて反応させる工程
IPC (5件):
C07C 17/10 ( 200 6.01) ,  C07C 17/395 ( 200 6.01) ,  C07C 19/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
C07C 17/10 ,  C07C 17/395 ,  C07C 19/08 ,  H01L 21/302 101 H ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (4件)
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