特許
J-GLOBAL ID：201103089443095637

研磨パッドの製造方法

発明者：
糸山 光紀

糸山 光紀 について


出願人/特許権者：
富士紡ホールディングス株式会社

富士紡ホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-200640
公開番号（公開出願番号）：特開2011-051045
出願日： 2009年08月31日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：
【課題】高温にさらされても硬度低下を抑制することができる研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】研磨パッドは、乾式成型されたポリウレタンシートを備えている。研磨パッドは、芳香族ジイソシアネート化合物、脂肪族ジイソシアネート化合物、ジオール化合物に水を分散希釈させた分散液、ジアミン化合物をそれぞれ準備する準備工程、各成分を混合して混合液を調製する混合工程、混合液を注型する注型工程、芳香族ジイソシアネート化合物を主として反応させ、発泡を形成させて発泡体を形成する発泡体形成工程、発泡体をシート状にスライスするスライス工程、得られたシートを加熱し、脂肪族ジイソシアネート化合物を主として反応させる架橋硬化工程、ポリウレタンシートと両面テープとを貼り合わせるラミネート工程を経て製造される。スライスされた後、架橋硬化される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被研磨物を研磨加工するためのポリウレタンシートを備えた研磨パッドの製造方法であって、 第1のジイソシアネート化合物と、予めジオール化合物に水を分散希釈させた分散液と、ジアミン化合物と、前記分散液およびジアミン化合物に対して前記第1のジイソシアネート化合物より低反応性の第2のジイソシアネート化合物とをそれぞれ準備する準備ステップと、 前記ジアミン化合物および前記分散液と、前記第1および第2のジイソシアネート化合物のうちの第1のジイソシアネート化合物とを主として反応させ発泡体を形成する発泡体形成ステップと、 前記発泡体をスライスして複数枚のポリウレタンシートを形成するシート形成ステップと、 前記ポリウレタンシートを加熱し、前記第1および第2のジイソシアネート化合物のうちの第2のジイソシアネート化合物を主として反応させて架橋硬化させる架橋硬化ステップと、 を含む製造方法。
IPC (3件)：
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C08G 18/72
FI (4件)：
B24B37/00 P ,  B24B37/00 L ,  H01L21/304 622F ,  C08G18/72 W
Fターム (33件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17 ,  4J034BA08 ,  4J034CA04 ,  4J034CA15 ,  4J034CB03 ,  4J034CC03 ,  4J034CC12 ,  4J034CC61 ,  4J034CC67 ,  4J034CD13 ,  4J034DG03 ,  4J034DG04 ,  4J034DG06 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HA13 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC22 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034LA22 ,  4J034LA33 ,  4J034NA03 ,  4J034QC01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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