特許
J-GLOBAL ID：200903065803726710

研磨パッドの製造方法および研磨パッド

発明者：
川村 佳秀

川村 佳秀 について

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糸山 光紀

糸山 光紀 について

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高橋 大介

高橋 大介 について

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真鍋 一樹

真鍋 一樹 について


出願人/特許権者：
富士紡ホールディングス株式会社

富士紡ホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-151365
公開番号（公開出願番号）：特開2008-302465
出願日： 2007年06月07日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】開孔が略均一かつ略均等に形成され研磨パッド間のバラツキが抑制された研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】研磨パッドはイソシアネート基含有化合物を主成分としており、乾式成型で形成されている。研磨パッドは、イソシアネート基含有化合物と、予めポリオール化合物に水を分散希釈させた分散液と、ポリアミン化合物とをそれぞれ準備する準備工程、各成分を混合すると共に非反応性気体を吹き込み混合液を調製する混合工程、混合液を型枠に注型する注型工程、型枠内で発泡体を成型する硬化成型工程、発泡体をシート状にスライスして複数の研磨パッドを形成するスライス工程、研磨パッドと両面テープとを貼り合わせるラミネート工程を経て製造される。予め水を分散液中に分散希釈しておき、非反応性気体を供給し混合することで略均一な発泡が形成される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
イソシアネート基含有化合物を主成分とした研磨パッドの製造方法であって、 イソシアネート基含有化合物と、予めポリオール化合物に水を1重量%〜6重量%の割合で分散希釈させた分散液と、ポリアミン化合物とをそれぞれ準備する準備ステップと、 前記イソシアネート基含有化合物、分散液およびポリアミン化合物を混合すると共に、前記イソシアネート基含有化合物、前記分散液および前記ポリアミン化合物に対して非反応性の気体を吹き込み混合液を調製する混合液調製ステップと、 前記混合液から発泡体を形成する発泡体形成ステップと、 前記発泡体をスライスして複数枚の研磨パッドを形成するスライスステップと、 を含む製造方法。
IPC (3件)：
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C08G 18/66
FI (3件)：
B24B37/00 L ,  H01L21/304 622F ,  C08G18/66 W
Fターム (50件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA06 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4J034BA05 ,  4J034BA06 ,  4J034BA07 ,  4J034BA08 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CA14 ,  4J034CA15 ,  4J034CB03 ,  4J034CB04 ,  4J034CC08 ,  4J034CC12 ,  4J034CC61 ,  4J034CD13 ,  4J034CE01 ,  4J034DA01 ,  4J034DB03 ,  4J034DB04 ,  4J034DB08 ,  4J034DG03 ,  4J034DG04 ,  4J034HA01 ,  4J034HA06 ,  4J034HA07 ,  4J034HC01 ,  4J034HC02 ,  4J034HC03 ,  4J034HC11 ,  4J034HC12 ,  4J034HC52 ,  4J034HC63 ,  4J034HC64 ,  4J034HC66 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034JA42 ,  4J034NA01 ,  4J034NA03 ,  4J034QA05 ,  4J034QB01 ,  4J034QB16 ,  4J034QC01 ,  4J034QC03 ,  4J034QD03 ,  4J034RA11
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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