特許
J-GLOBAL ID:201103089577480316
電界効果トランジスタ、半導体基板及び電界効果トランジスタの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
龍華国際特許業務法人
, 林 茂則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-198538
公開番号(公開出願番号):特開2011-077516
出願日: 2010年09月06日
公開日(公表日): 2011年04月14日
要約:
【課題】高いチャネル移動度を有する電界効果トランジスタを提供する。【解決手段】ゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層に接する第1半導体結晶層と、第1半導体結晶層に格子整合または擬格子整合する第2半導体結晶層とを有し、前記ゲート絶縁層、前記第1半導体結晶層および前記第2半導体結晶層が、ゲート絶縁層、第1半導体結晶層、第2半導体結晶層の順に配置されており、前記第1半導体結晶層がInx1Ga1-x1Asy1P1-y1(0<x1≦1、0≦y1≦1)であり、前記第2半導体結晶層がInx2Ga1-x2Asy2P1-y2(0≦x2≦1、0≦y2≦1、y2≠y1)であり、前記第1半導体結晶層の電子親和力Ea1が前記第2半導体結晶層の電子親和力Ea2より小さい電界効果トランジスタを提供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層に接する第1半導体結晶層と、前記第1半導体結晶層に格子整合または擬格子整合する第2半導体結晶層とを有し、
前記ゲート絶縁層、前記第1半導体結晶層および前記第2半導体結晶層が、前記ゲート絶縁層、前記第1半導体結晶層、前記第2半導体結晶層の順に配置されており、
前記第1半導体結晶層がInx1Ga1-x1Asy1P1-y1(0<x1≦1、0≦y1≦1)であり、
前記第2半導体結晶層がInx2Ga1-x2Asy2P1-y2(0≦x2≦1、0≦y2≦1、y2≠y1)であり、
前記第1半導体結晶層の電子親和力Ea1が前記第2半導体結晶層の電子親和力Ea2より小さい
電界効果トランジスタ。
IPC (5件):
H01L 29/812
, H01L 29/778
, H01L 21/338
, H01L 29/78
, H01L 29/786
FI (4件):
H01L29/80 H
, H01L29/78 301B
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 618E
Fターム (79件):
5F102FA03
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD10
, 5F102GJ03
, 5F102GJ05
, 5F102GJ10
, 5F102GL04
, 5F102GL08
, 5F102GL14
, 5F102GM04
, 5F102GM08
, 5F102GQ01
, 5F102GR07
, 5F102HC01
, 5F102HC07
, 5F102HC15
, 5F110AA01
, 5F110CC02
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE04
, 5F110EE14
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF27
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG04
, 5F110GG06
, 5F110GG12
, 5F110GG19
, 5F110GG25
, 5F110GG42
, 5F110GG44
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK04
, 5F110HK21
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110QQ14
, 5F110QQ17
, 5F140AA01
, 5F140AA29
, 5F140AC36
, 5F140BA01
, 5F140BA07
, 5F140BA08
, 5F140BA09
, 5F140BA16
, 5F140BB06
, 5F140BB18
, 5F140BC12
, 5F140BD11
, 5F140BE09
, 5F140BE10
, 5F140BF07
, 5F140BF11
, 5F140BF15
, 5F140BG30
, 5F140BG37
, 5F140BH21
, 5F140BJ07
, 5F140BJ11
, 5F140BJ15
, 5F140BK13
, 5F140BK21
, 5F140BK29
, 5F140CE02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平1-119065
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電界効果トランジスタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-225129
出願人:日本電気株式会社
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特開平1-194469
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特開昭62-088370
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特開昭60-223163
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-170486
出願人:日本電信電話株式会社
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