特許
J-GLOBAL ID:201103090087098624
画像形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 誠
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-058301
公開番号(公開出願番号):特開2001-246778
特許番号:特許第4183156号
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2001年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 画像変調信号に基づいて変調した発光素子の光で感光体を走査する走査手段と、該感光体に対して所定の位置において前記走査手段からの走査光を検出する走査光検出手段とを有し、該走査光検出手段からの検出信号に基づく所定のタイミングで前記感光体を走査して前記画像変調信号に応じた静電潜像を形成する画像形成装置において、
電圧制御発振回路および該電圧制御発振回路の出力を分周する分周回路および該分周回路の出力と基準周波数との位相を比較する位相比較回路からなるPLLと、
前記電圧制御発振回路の出力を分周して位相同期信号に同期した画素クロックを出力する画素クロック出力回路と、
前記画素クロックに同期して画像データを入力する画像データ入力回路と、
前記電圧制御発振回路の出力と前記画像データとに基づいて変調パターン信号を生成する変調パターン生成回路と、
前記変調パターン信号に基づいて前記発光素子を制御変調する半導体レーザ制御変調回路とを有し、
前記画素クロック出力回路は、一走査期間中に決められた間隔で、前記電圧制御発振回路の出力を分周する動作を停止させて、前記画素クロックの周期を、前記電圧制御発振回路の出力の1周期に対応した量の刻みで変更することを特徴とする画像形成装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体レーザ制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-138201
出願人:株式会社リコー
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-063674
出願人:富士ゼロックス株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-272779
出願人:シャープ株式会社
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