負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-264418
公開番号（公開出願番号）：特開2001-140056
特許番号：特許第3610372号
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空容器内部において、イオン源から試料基板表面へのイオン照射と、膜基材の試料基板表面への蒸着とを同時に行うダイナミックミキシング処理による膜形成方法であって、イオン源から照射されるイオンが金属元素もしくは絶縁体中で過飽和にすることのできる非金属元素の負イオンで、試料基板に同時蒸着する膜基材が絶縁体物質であり、前記金属元素もしくは前記非金属元素の微粒子が膜基材中に分散されている微粒子分散膜を形成することを特徴とする負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法。

IPC (4件)：