特許
J-GLOBAL ID:201103090636901094
半導体装置及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
三好 秀和
, 伊藤 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-095152
公開番号(公開出願番号):特開2011-233889
出願日: 2011年04月21日
公開日(公表日): 2011年11月17日
要約:
【課題】低いチャネル抵抗を具現し、電界効果移動度が高くなる効果がある二重ゲートトランジスタを含む半導体装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明による半導体装置は、下部ゲート電極と、前記下部ゲート電極上の上部ゲート電極と、前記下部ゲート電極と前記上部ゲート電極の間に介在され、前記下部ゲート電極と前記上部ゲート電極を連結するコンタクトプラグと、前記上部ゲート電極と同一の高さに前記上部ゲート電極から離隔して形成された機能電極と、を含む。本発明によれば、電界効果移動度が高い二重ゲートトランジスタを半導体装置に適用させることによって、半導体装置の特性を改善することができる。特に、本発明によれば、別途のマスク工程や蒸着工程を追加する必要がないので、工程コストの上昇や収率減少をもたらすことなく、大面積・高画質の半導体装置を大量生産することができる。【選択図】図1c
請求項(抜粋):
下部ゲート電極と、
前記下部ゲート電極上の上部ゲート電極と、
前記下部ゲート電極と前記上部ゲート電極との間に介在され、前記下部ゲート電極と前記上部ゲート電極を連結するコンタクトプラグと、
前記上部ゲート電極と同一の高さに前記上部ゲート電極から離隔して形成された機能電極と、
を含む半導体装置。
IPC (10件):
H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 29/423
, H01L 29/49
, H01L 29/417
, G02F 1/136
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/08
, H01L 29/41
FI (9件):
H01L29/78 617N
, H01L29/78 627C
, H01L29/58 G
, H01L29/50 M
, G02F1/1368
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/08
, H01L29/44 L
Fターム (80件):
2H092GA29
, 2H092JA24
, 2H092JA36
, 2H092JA38
, 2H092JA40
, 2H092JA46
, 2H092JB57
, 2H092KA08
, 2H092KA10
, 2H092KA12
, 2H092KB22
, 2H092NA17
, 2H092NA22
, 2H092NA27
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC21
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107EE03
, 3K107EE04
, 3K107GG28
, 3K107HH05
, 4M104AA03
, 4M104AA09
, 4M104BB02
, 4M104BB16
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104CC05
, 4M104DD07
, 4M104DD16
, 4M104DD17
, 4M104DD63
, 4M104DD94
, 4M104FF01
, 4M104FF13
, 4M104GG04
, 4M104HH00
, 4M104HH16
, 5F110AA01
, 5F110AA28
, 5F110BB01
, 5F110BB09
, 5F110CC03
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD12
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD17
, 5F110EE03
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE14
, 5F110EE24
, 5F110EE30
, 5F110EE38
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF05
, 5F110FF09
, 5F110GG01
, 5F110GG32
, 5F110HK03
, 5F110HK06
, 5F110HK07
, 5F110HK21
, 5F110HL22
, 5F110NN02
, 5F110NN12
, 5F110NN13
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN71
, 5F110NN72
, 5F110QQ08
引用特許:
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