特許

J-GLOBAL ID：201103091309738259

ウエハ処理装置

発明者： パーク ジャエ ヘオン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592866
特許番号：特許第4384817号
出願日： 1999年12月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 第1のウエハ搬送装置と、 各々が複数のウエハ処理モジュールを有する複数の第1のウエハ処理スタック、及び、当該複数の第1のウエハ処理スタックの全てにアクセス可能である第2のウエハ搬送装置を含む、第1の処理ステーションと、 各々が複数のウエハ処理モジュールを有する複数の第2のウエハ処理スタック、及び、当該複数の第2のウエハ処理スタックの全てにアクセス可能である第3のウエハ搬送装置を含み、かつ、前記第1の処理ステーションに隣接して配置された、第2の処理ステーションと、 前記第1及び第2の処理ステーションについて、前記第1のウエハ搬送装置とは反対側に配置された、第4のウエハ搬送装置と、 を備え、 前記複数の第1のウエハ処理スタックは、中央に多角形構造を有する第1の空室を形成するように配置され、前記第2のウエハ搬送装置が前記第1の空室に配置され、 前記複数の第2のウエハ処理スタックは、中央に前記第1の空室と同一の多角形構造を有する第2の空室を形成するように配置され、前記第3のウエハ搬送装置が前記第2の空室に配置され、 前記複数の第1のウエハ処理スタックのそれぞれは、前記第2のウエハ搬送装置について、前記第1の処理ステーションから前記第2の処理ステーションへの方向及び当該方向とは直交する方向を基準として対称の位置に配置され、 前記複数の第2のウエハ処理スタックのそれぞれは、前記第3のウエハ搬送装置について、前記第1の処理ステーションから前記第2の処理ステーションへの方向及び当該方向とは直交する方向を基準として対称の位置に配置され、 前記複数の第1のウエハ処理スタックと前記複数の第2のウエハ処理スタックの全てのウエハ処理モジュールが、前記第1のウエハ搬送装置又は前記第4のウエハ搬送装置によってアクセス可能であることを特徴とするウエハ処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/677 ( 200 6.01)

FI (1件)：

H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-066326   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-202717   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-138411   出願人：大日本スクリーン製造株式会社