特許

J-GLOBAL ID：201103092564111100

マグネット回転スパッタ装置

発明者： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  シャープ株式会社
代理人 (4件)： 前田 弘 ,  竹内 祐二 ,  米田 圭啓 ,  小池 隆彌
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-339020
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309867
特許番号：特許第3803520号
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被成膜基板と、 前記被成膜基板に対向配置されたターゲットと、前記ターゲットの前記被成膜基板とは反対側に、柱状の複数のマグネットまたは容器内に柱状のマグネットを容れた複数のマグネットユニットが、前記複数のマグネットの中心軸がそれぞれ互いに略々平行かつ前記ターゲット表面と略々平行となるよう配置され、 前記複数のマグネットは、N極とS極とが前記中心軸に対して略々直角方向に互いに対向して形成され、 互いに隣接する前記複数のマグネットまたは前記複数のマグネットユニットは、90°づつ磁化の向きの位相を取って配置され、 前記複数のマグネットは、前記中心軸を回転軸として同一方向に同一回転速度で回転し、 前記マグネットまたは前記マグネットユニットが冷媒溶液中に配置され、 前記冷媒溶液の少なくとも一部が前記マグネットの回転軸と同一方向に流れるように、前記冷媒溶液の通路が形成され、 前記マグネットまたは前記マグネットユニットの表面に、スクリュー状の羽根または溝が形成されたことを特徴とするマグネット回転スパッタ装置。

IPC (4件)：

C23C 14/35 ( 200 6.01) ,  H01L 21/203 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 14/35 B ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/31 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• マグネトロンスパツタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-338015   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭57-114663
  
• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-313369   出願人：バルツェルスアクチェンゲゼルシャフト

審査官引用 (2件)

• マグネトロンスパツタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-338015   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭57-114663