特許

J-GLOBAL ID：201103094126508997

電子線描画装置

発明者： 安本 英樹 ,  冨吉 力生 ,  森村 利幸 ,  伊藤 博之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立サイエンスシステムズ
代理人 (3件)： 小川 勝男 ,  高橋 明夫 ,  田中 恭助
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037023
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235946
特許番号：特許第3637229号
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電子源と、電子ビームを形成させる収束手段と、該電子ビームを偏向させる偏向系と、該偏向させた収束ビームを複数のマスクの開口エッジを用いて所定の図形の電子ビームに可変成形する第一の成形手段と、該電子ビームを複数の一括図形成形用の開口を有するマスク上の一つの開口を選択して一つの一括図形の電子ビームに成形する第二の成形手段と、これら第一、第二の成形手段を切換える切換手段と、該第一の成形手段および/もしくは第二の成形手段による該図形の電子ビームを投影し、試料上にパターンを描画する描画手段と、これらを制御する制御用計算機とからなり、 前記制御用計算機は、前記マスク上の開口の使用順序を予め記憶し、この使用順序に応じて電子ビームの整定待ち時間を変更する制御手段を備え、この制御手段により、前記描画手段で試料上に所望パターンを描画する際、前記切換手段による前記第一、第二の成形手段の切換え時のマスクの移動時間を含む電子ビーム整定待ち時間を制御し、且つ前記第一の成形手段から前記第二の成形手段に切換える時の電子ビーム整定待ち時間を、前記第二の成形手段から前記第一の成形手段に切換える時の電子ビーム整定待ち時間よりも短く制御するようにしたことを特徴とする電子線描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 Q ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電子線露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-060750   出願人：日本電気株式会社
• 荷電ビーム露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-278603   出願人：株式会社東芝
• 特開平2-111012