電子線露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：菅野中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-060750
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256134
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】メモリセル領域やアレイ領域でのパターン位置精度を向上させ、かつ高い解像性を得る。【解決手段】電子線を所望の形状に成形するための可変成形開口及び複数のパターン開口群を有する部分一括マスクを用いる電子線露光装置において、部分一括マスク上のパターン開口の一つを選択する際に電子線が偏向される距離及び、部分一括マスクを通過し成形された電子線が可変成形光軸に振り戻される時の振り戻し偏向器の出力電圧変化量に従い電子線の光軸が安定するまでの整定待ち時間を変化させる機能を有する。

請求項（抜粋）：

時間設定部を有する部分一括描画方式を用いた電子線露光装置であって、時間設定部は、部分一括マスク上で所望のパターン開口を選択する際の電子線の偏向距離によって、整定待ち時間を設定するものであることを特徴とする電子線露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 J , H01L 21/30 541 Q

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-092020
荷電粒子ビーム露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-059116 出願人：富士通株式会社
特開平4-186718

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