真空精錬容器における操業方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：杉村憲司 , 来間清志 , 杉村興作 , 徳永博 , 梅本政夫 , 青木純雄 , 藤谷史朗
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-085850
公開番号（公開出願番号）：特開2000-282133
特許番号：特許第4075200号
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】RH脱ガス処理装置を用いて真空精錬容器内に取鍋内の溶鋼を吸い上げて溶湯の脱ガス処理を実施するに当たり、該脱ガス処理の全処理期間を通じて真空精錬容器の少なくとも湯面から排気口下端に至るまでの領域の内壁面に、厚さ:5〜500mmの地金層を付着させた状態を維持しつつ溶湯の脱ガス処理を行うことを特徴とする、真空精錬容器における操業方法。

IPC (1件)：