特許
J-GLOBAL ID：201103094458134799
光学補償シートの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳川 泰男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-202076
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022942
特許番号：特許第4351791号
出願日： 2000年07月04日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】酢化度が59.0乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテートに加えて、セルロースアセテート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含むセルロースアセテートフイルムを搬送方向に対して横方向に33乃至70%延伸することにより、下記式(I)により定義されるReレターデーション値が20乃至200nmの範囲にあり、下記式(II)により定義されるRthレターデーション値が70乃至400nmの範囲にあり、そして延伸方向の弾性率が5000乃至10000MPaの範囲にある延伸セルロースアセテートフイルムを製造することを特徴とする該延伸セルロースアセテートフイルムからなる光学補償シートの製造方法:
(I) Re=(nx-ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2-nz}×d
[式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そして、dは、フイルムの厚さである]。
IPC (5件)：
G02B 5/30 ( 200 6.01)
, C08K 5/00 ( 200 6.01)
, C08L 1/12 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
, G02F 1/1336 ( 200 6.01)
G02B 5/30
, C08K 5/00
, C08L 1/12
, G02F 1/133 510
, G02F 1/133 3
