特許

J-GLOBAL ID：201103095295620948

ウェーハレベルアーク検出のための装置と方法

発明者： クラウス、 アラン エフ.
出願人/特許権者： シュナイダー エレクトリック ユーエスエイ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  原 裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-514738
公開番号（公開出願番号）：特表2011-527379
出願日： 2009年06月16日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：

プラズマプロセスチェンバーにおいてウェーハレベルアークを検出するための方法と装置。方法は、例えば、プラズマプロセスチェンバーに供給された信号の波形を監視することと、波形中の特徴を検出することと、特徴を検出したことに応答して、波形が特徴の後で安定化したかどうかを決定することと、波形が安定化したことに応答して、特徴が双方向波形異常の一部であるかまたは一方向波形遷移であるかを決定することと、特徴が双方向波形異常の一部であることの指標かまたは特徴が一方向波形遷移であることの指標のどちらかを、コンピューター読み取り可能な媒体に記録することと、を含む。

請求項（抜粋）：

プラズマプロセスチェンバーにおいてウェーハレベルアークを検出するための方法であって、 プラズマプロセスチェンバーに供給された信号の波形を監視することと、 波形中の特徴を検出することと、 特徴を検出したことに応答して、波形が特徴の後で安定化したかどうかを決定することと、 波形が安定化したことに応答して、特徴が双方向波形異常の一部であるかまたは一方向波形遷移であるかを決定することと、 特徴が双方向波形異常の一部であることの指標かまたは特徴が一方向波形遷移であることの指標のどちらかを、コンピューター読み取り可能な媒体に記録することと、 を含む方法。

IPC (5件)：

C23C 14/34 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

C23C14/34 U ,  H05H1/00 A ,  H05H1/46 R ,  H01L21/302 103 ,  H01L21/02 Z

Fターム (14件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029BC03 ,  4K029BD02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC27 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029EA06 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• アークカウント装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-240179   出願人：ソニー株式会社
• 基板処理装置、基板処理装置におけるアーキング発生監視方法、タングステン薄膜作成方法及びタングステン薄膜作成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-307503   出願人：キヤノンアネルバ株式会社