研磨用組成物および研磨方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白井重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064631
特許番号：特許第4171858号
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも研磨材、およびスルホン酸(塩)基を有する(共)重合体からなる研磨助剤を含有し、研磨助剤として、該スルホン酸(塩)基を有する(共)重合体に、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤の群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤をさらに配合してなり、金属膜を化学機械研磨するために使用されることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (2件)：