ガスバリア性積層フィルム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-089843
公開番号（公開出願番号）：特開2011-073430
出願日： 2010年04月08日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能なガスバリア性積層フィルムを提供する。【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも1層の薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも1層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率(珪素の原子比)、酸素原子の量の比率(酸素の原子比)及び炭素原子の量の比率(炭素の原子比)との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、規定の条件満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも1層の薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも1層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率(珪素の原子比)、酸素原子の量の比率(酸素の原子比)及び炭素原子の量の比率(炭素の原子比)との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、下記条件(i)〜(iii): (i)珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の90%以上の領域において下記式(1): (酸素の原子比)>(珪素の原子比)>(炭素の原子比)・・・(1) で表される条件を満たすこと、或いは、珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の90%以上の領域において下記式(2): (炭素の原子比)>(珪素の原子比)>(酸素の原子比)・・・(2) で表される条件を満たすこと、 (ii)前記炭素分布曲線が少なくとも1つの極値を有すること、 (iii)前記炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が5at%以上であること、を全て満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。

IPC (7件)：

B32B 27/00 , B32B 9/00 , C23C 16/42 , H05B 33/04 , H01L 51/50 , H05B 33/02 , G02F 1/133

FI (7件)：

B32B27/00 B , B32B9/00 A , C23C16/42 , H05B33/04 , H05B33/14 A , H05B33/02 , G02F1/1333

Fターム (50件)：

2H189AA14 , 2H189AA16 , 2H189BA11 , 2H189FA81 , 2H189HA07 , 2H189HA16 , 3E086AB02 , 3E086BA04 , 3E086BB05 , 3E086CA28 , 3E086CA31 , 3E086DA08 , 3K107AA01 , 3K107BB02 , 3K107CC23 , 3K107DD17 , 3K107EE45 , 3K107EE46 , 3K107EE48 , 3K107EE50 , 3K107FF14 , 3K107FF15 , 3K107GG03 , 4F100AH02B , 4F100AH06B , 4F100AK03A , 4F100AK41A , 4F100AK42A , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA07 , 4F100BA44 , 4F100BA44B , 4F100EH66B , 4F100GB15 , 4F100GB41 , 4F100GB66 , 4F100JD02 , 4F100JM02B , 4F100YY00B , 4K030AA06 , 4K030AA14 , 4K030BA36 , 4K030BA37 , 4K030BA42 , 4K030BA44 , 4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030CA17 , 4K030GA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

ガスバリアフィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-052307 出願人：大日本印刷株式会社
プラズマCVD法による蒸着膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-020912 出願人：東洋製罐株式会社
ガスバリア性積層フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-089840 出願人：住友化学株式会社

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