特許
J-GLOBAL ID:201103095590811364
分光測定装置、および分析装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-261586
公開番号(公開出願番号):特開2011-106936
出願日: 2009年11月17日
公開日(公表日): 2011年06月02日
要約:
【課題】正確な分光特性を測定可能な分光測定装置、および分析装置を提供する。【解決手段】分光測定装置3は、互いに対向する固定基板および可動基板と、可動基板に設けられる変位部と、変位部を初期位置に向かって付勢する連結保持部と、変位部および固定基板にギャップを介して対向配置される反射膜と、ギャップを調整する静電アクチュエーターと、ギャップ間隔を演算するギャップ演算手段823と、反射膜を透過した光の受光量を測定する受光部6と、変位部を予め設定された第一変位位置まで変位させるギャップ制御手段821と、変位部が初期位置に戻る復元過程で、透過光の光量測定、およびギャップの間隔の演算を同時に実施させる測定制御手段825と、を具備した。【選択図】図1
請求項(抜粋):
互いに対向する第一基板および第二基板と、
前記第一基板に設けられ、基板厚み方向に沿って変位可能な変位部と、
前記変位部を、当該変位部が変位していない位置である初期位置に向かって付勢する付勢手段と、
前記第一基板の前記変位部に設けられる第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、ギャップを介して前記第一反射膜に対向する第二反射膜と、
前記ギャップの間隔を変化させるギャップ調整手段と、
前記ギャップの間隔を測定するギャップ測定手段と、
前記第一反射膜および第二反射膜を透過または反射した光を受光するとともに、受光量を測定する受光手段と、
前記ギャップ調整手段を制御し、前記変位部を予め設定された設定変位位置まで変位させるギャップ制御手段と、
前記変位部が前記設定変位位置から前記初期位置に戻る復元過程で、前記受光手段による受光量の測定、およびギャップ測定手段によるギャップの間隔の測定を同時に実施させる測定制御手段と、
を具備したことを特徴とする分光測定装置。
IPC (4件):
G01J 3/26
, G01J 3/50
, G02B 5/28
, G02B 26/00
FI (4件):
G01J3/26
, G01J3/50
, G02B5/28
, G02B26/00
Fターム (56件):
2G020AA04
, 2G020AA08
, 2G020BA12
, 2G020CA12
, 2G020CC23
, 2G020CC52
, 2G020CD03
, 2G020CD12
, 2G020CD14
, 2G020CD16
, 2G020CD22
, 2G020CD51
, 2G020DA02
, 2G020DA03
, 2G020DA22
, 2G020DA34
, 2G020DA35
, 2G020DA36
, 2G020DA63
, 2G059AA05
, 2G059BB01
, 2G059BB08
, 2G059BB15
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE10
, 2G059EE12
, 2G059EE13
, 2G059HH02
, 2G059KK01
, 2G059PP04
, 2H048GA03
, 2H048GA04
, 2H048GA13
, 2H048GA25
, 2H048GA33
, 2H048GA61
, 2H141MA22
, 2H141MB28
, 2H141MC06
, 2H141MD02
, 2H141MD04
, 2H141MD38
, 2H141ME01
, 2H141ME04
, 2H141ME24
, 2H141ME25
, 2H141MF05
, 2H141MF10
, 2H141MF26
, 2H141MG10
, 2H141MZ03
, 2H141MZ12
, 2H141MZ16
, 2H141MZ19
, 2H141MZ28
引用特許:
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