特許
J-GLOBAL ID：201103096144254318
スピンオングラス膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
, 橋本 傳一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-307686
公開番号（公開出願番号）：特開2000-138214
特許番号：特許第3554686号
出願日： 1999年10月28日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】半導体素子の平坦化特性を得るためのスピンオングラス膜の形成方法において、ウェーハ上にスピンオングラス膜を塗布する第1の段階と、前記ウェーハを含む密閉された容器内にエーテル系の物質であるスピンオングラス溶剤を噴射し、前記容器内に前記溶剤の蒸気が飽和されるようにし、前記ウェーハを回転させて前記スピンオングラス膜が再溶解するようにして、前記スピンオングラス膜の表面を平坦化させる第2の段階とを含むことを特徴とするスピンオングラス膜の形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/316
, B05D 1/40
, H01L 21/768
, B05C 11/08
H01L 21/316 G
, B05D 1/40 A
, H01L 21/90 Q
, B05C 11/08
