特許
J-GLOBAL ID:201103097672805098
走査プローブ顕微鏡チップの使用方法及び該使用方法を実施するための製品又は該使用方法によって製造される製品
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
清水 初志
, 橋本 一憲
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-592858
特許番号:特許第3963650号
出願日: 2000年01月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】所望のパターンを生成するためのナノリソグラフィ法であって、
基板を提供する工程と、
走査プローブ顕微鏡チップを提供する工程と、
チップをパターニング化合物で被覆する工程と、
チップの周りに、チップと基板の間を架橋するメニスカスを形成するのに十分な湿度を有する雰囲気中で、チップから基板へパターニング化合物を輸送する工程
を含む方法であり、
ここで、前記輸送する工程が、チップから基板への毛細管移動によるパターニング化合物の流れで実行される方法。
IPC (4件):
B82B 3/00 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
, G01N 13/16 ( 200 6.01)
, G12B 21/02 ( 200 6.01)
FI (5件):
B82B 3/00
, B81C 1/00
, G01N 13/16 A
, G01N 13/16 C
, G12B 1/00 601 A
引用特許:
出願人引用 (7件)
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試料表面加工用チップ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-045287
出願人:日本電子株式会社
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特開平4-241238
-
原子間力顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-190197
出願人:株式会社東芝
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審査官引用 (7件)
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試料表面加工用チップ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-045287
出願人:日本電子株式会社
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特開平4-241238
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原子間力顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-190197
出願人:株式会社東芝
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引用文献:
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