特許
J-GLOBAL ID：201103098572498887
珪素脱離方法及びシリコンウェーハの不純物分析方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169843
公開番号（公開出願番号）：特開2002-368052
特許番号：特許第3755586号
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】珪素含有溶液から珪素を脱離する方法であって、珪素含有溶液と弗化水素水及び硝酸を含有した脱離溶液とを同一密閉容器内に配置し各溶液を所定時間加熱することにより該珪素含有溶液中の珪素を脱離することを特徴とする珪素脱離方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66 ( 200 6.01)
, C01B 33/02 ( 200 6.01)
, G01N 1/04 ( 200 6.01)
H01L 21/66 L
, C01B 33/02 Z
, G01N 1/04 V
