特許
J-GLOBAL ID：201103098583655526
表面微細凹凸組織の低温形成法および当該組織を有する基体
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 北原 康廣
, 青山 葆
, 山田 卓二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193858
公開番号（公開出願番号）：特開2001-017907
特許番号：特許第4247354号
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】アルミニウムアルコキシドと、β-ジケトン化合物、β-ケトエステル化合物、アルカノールアミンから選ばれる安定化剤と、アルコール類の溶媒とを含有する溶液からアルミナゾル溶液を形成する工程、
該ゾル溶液を基材に塗布する工程、
該ゾル溶液塗布膜をゲル化する工程、および
得られたゲル膜を50〜100°Cの温水に浸漬する工程
からなり、400°C以上の熱処理工程を必要としないことを特徴とする、空隙が20nmないし150nmで凹凸が10nm乃至100nmの表面微細凹凸組織を有する透明アルミナ薄膜の低温製造方法。
IPC (9件)：
B05D 3/00 ( 200 6.01)
, B01J 35/02 ( 200 6.01)
, B05D 7/24 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
, B32B 37/00 ( 200 6.01)
, B32B 33/00 ( 200 6.01)
, C01F 7/02 ( 200 6.01)
, C01F 7/36 ( 200 6.01)
, C09K 3/18 ( 200 6.01)
B05D 3/00 A
, B01J 35/02 J
, B05D 7/24 302 E
, B05D 7/24 302 A
, B32B 9/00 Z
, B32B 31/00
, B32B 33/00
, C01F 7/02 Z
, C01F 7/36
, C09K 3/18
, C09K 3/18 101
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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