研究者
J-GLOBAL ID:201201019302117914   更新日: 2024年02月01日

武田 さくら

Takeda Sakura Nishino
所属機関・部署:
職名: 助教
ホームページURL (1件): https://sites.google.com/site/sntprojects/
研究分野 (2件): 薄膜、表面界面物性 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (10件): 非線形現象 ,  量子化電子状態 ,  電子格子相互作用 ,  反転層 ,  ARPES ,  RHEED ,  電子物性 ,  表面・界面 ,  カソードルミネッセンス ,  Raman
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 2022 - 2025 光電子分光と発光分光を駆使したIV族半導体表面直下の電子状態の研究
  • 2014 - 2019 半導体中不純物の3D構造制御と低損失・高効率デバイスの開発
  • 2012 - 2015 歪み半導体の表面近傍における歪み量と価電子構造の研究
  • 2010 - 2014 Si,Ge表面反転層サブバンド構造の異方性と歪みによる物性制御
  • 2008 - 2010 ひずみ印加によるpチャンネル中サブバンドの 面内有効質量の変化の計測
全件表示
論文 (39件):
もっと見る
MISC (2件):
  • 橋村 詩織, 武田 さくら, 大門 寛. Si(111)-Li表面の新しい相図と初期吸着構造. 表面科学学術講演会要旨集. 2011. 31. 0. 50-50
  • 武田さくら, 松田和久, 島和也, 安井伸太郎, 酒井智香子, 桑子敦, 大門寛. Si(111)上へのNa,Mg吸着初期過程のリアルタイムモニタリング. 日本物理学会講演概要集. 2008. 63. 2
講演・口頭発表等 (193件):
  • 発光分光で求めた300°C〜500°CにおけるSiの加熱電流と温度の関係
    (日本物理学会 2023年春季大会 2023)
  • 実測サブバンド準位を満たすイオン打ち込みSi(001)p型反転層形状の探索的決定
    (日本物理学会 2023年春季大会 2023)
  • Si(111) p型空間電荷層のバンド湾曲形状の価電子量子化による平坦化
    (応用物理学会 2023年春季学術講演会 2023)
  • シリコン表面直下領域の価電子状態:実測と理解、デバイス応用
    (物質科学&デバイス物理研究会 2023)
  • 実測サブバンド準位を満たすイオン打ち込みSi(001)p型反転層形状の探索的決定
    (「電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理-」 (第28回研究会) EDIT28)
もっと見る
学歴 (2件):
  • 1994 - 1999 東京大学 理学系研究科 物理学専攻
  • 1990 - 1994 東京理科大学 理学部 物理学科
学位 (1件):
  • 博士(理学) (東京大学)
経歴 (1件):
  • 1999/04 - 現在 奈良先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 (旧物質創成科学研究科) 助教
委員歴 (12件):
  • 2018 - 現在 応用物理学会 代議員
  • 2018 - 現在 応用物理学会 薄膜表面分科会 幹事
  • 2017 - 現在 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) program committee
  • 2008 - 現在 電子デバイス界面テクノロジー研究会(旧ゲートスタック研究会) プログラム・実行委員
  • 2016 - 2018 International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN-14) Publicity Committee
全件表示
受賞 (2件):
  • 2007/09 - (社)日本物理学会 第1回若手奨励賞 Si反転層中の価電子サブバンド分散の実験的決定
  • 2003/08 - (社)応用物理学会 第14回講演奨励賞 角度分解電子分光法によるSi反転層内の ホールサブバンド面内分散の決定
所属学会 (5件):
米国電気電子学会 (IEEE) ,  日本放射光学会 ,  日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  日本物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る