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J-GLOBAL ID：201202132262184090   整理番号：12A1417785

レーザーアブレーション法によるランタノイド酸化物ゲート膜の作製と評価

著者 (5件)： 北井聡 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  上野正人 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  毎田修 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  金島岳 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 48th  号： 2  ページ： 855  発行年： 2001年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザーアブレーション法 ,  ランタノイド ,  酸化物 ,  ゲート ,  作製 ,  評価