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J-GLOBAL ID:201202201901189091   整理番号:12A0164615

嵩高キラル置換基をもつ新規N-置換-N-ビニルホルムアミド誘導体のラジカル重合

Radical Polymerization of Novel N-Substituted-N-vinylformamide Derivatives with Bulky Chiral Substitutents
著者 (2件):
資料名:
巻: 50  号:ページ: 134-141  発行年: 2012年01月01日 
JST資料番号: C0337C  ISSN: 0887-624X  CODEN: JPLCAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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N-(p-メトキシベンジル)-,N-(シクロヘキシルメチル)-,N-(S)-2-メチルブチル-,N-2-メチルブチル-,N-(S)-グリシジル-およびN-(S)-2,3-ジヒドロキシプロピル-N-ビニルホルムアミドを新規に合成し,これらのラジカル重合性および高分子構造に及ぼす嵩高キラル置換基の効果を,1H-および13C-NMRとCDスペクトルにより研究した。この結果,ラジカル重合におけるN位置での置換基の嵩高効果を明らかにした。しかし,置換基の嵩高性は高分子構造には影響を与えなかった。一方,キラル高分子では,CDの正Cotton効果の強度が低い重合温度で高くなるが,これは立体規則性や位置規則性などの高分子構造に嵩高性が影響することを示唆した。
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分類 (1件):
分類
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単独重合 
物質索引 (5件):
物質索引
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