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J-GLOBAL ID：201202202980915130   整理番号：12A1092713

ペンダント型アルコキシルおよびアダマンチルエステル基を有するnoria_MP(水車様の大環状化合物)誘導体に基づいている極端紫外線(EUV)レジスト材料

Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material Based on Noria (Water Wheel-like Macrocycle) Derivatives with Pendant Alkoxyl and Adamantyl Ester Groups

著者 (8件)： KUDO Hiroto (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  NIINA Nobumitsu (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  SATO Tomoharu (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  OIZUMI Hiroaki (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN) ,  ITANI Toshiro (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN) ,  MIURA Takuro (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  WATANABE Takeo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KINOSHITA Hiroo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 25  号： 5  ページ： 587-592  発行年： 2012年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報では,ペンダント型アダマンチルエステル基を有するnoria_MP(noriaMP AD_n)を合成し,それらの物理的性質とEUVパターン形成性質を調べた。noriaMP AD_nを,NMP中でK₂CO₃とテトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB)存在下でnoria_MPと2-ブロモアセチロキシ-2-メチルアダマンタン(BMA)の置換反応で合成した。各種アダマンチルエステル部分の導入度を有するnoriaMP AD_nを,導入比率を制御して合成した。その結果,全てのnoriaMP AD_nは良好なフィルム形成能力を有していた。しかし,noriaMP AD_nは,TMAH水溶液に溶解する故にレジスト材料用の候補ではなかった。パターン形成性質を,EUV暴露システム中のnoriaMP AD₁₈とnoriaMP AD₅₃から調製された薄膜を使って調べた。その結果,noriaMP ADは,次世代のEUVレジスト材料としてより高い解像度のレジストパターンを与える高いポテンシャルを有していた。

シソーラス用語： 吊下げ ,  *シクロアルカン ,  *架橋化合物 ,  エステル ,  *大環状化合物 ,  化学合成 ,  *極端紫外線 ,  *化学増幅レジスト ,  パターン形成 ,  炭酸カリウム ,  置換反応 ,  フィルム形成能 ,  水溶液 ,  可溶性 ,  高分解能 ,  *アルコキシ基 ,  溶解性
準シソーラス用語： *アルコキシル基 ,  *EUVレジスト ,  *アダマンタン類 ,  高解像度

分類 (4件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  三環以上の炭素橋かけ多環化合物  (CF06110B) ,  シクロファン,カテナン,ロタキサン,カリキサレン,ノット(三つ葉結び目)  (CF06120M)

物質索引 (4件)： NMP ,  TMAH ,  テトラブチルアンモニウムブロミド ,  ブロモ酢酸2-メチル-2-アダマンチル

引用文献 (31件)：

• 1. J. Fujita, Y. Ohnishi, S. Manako, Y. Ochiai, E. Nomura, T. Sakamoto, and S. Matsui, Jpn. J. Appl. Phys., 36, 7769 (1997).
• 2. T. Sakamoto, S. Manako, J, Fujita, Y, Ochiai, T. Baba, H. Yamamoto, and T. Teshima, Appl. Phys. Lett., 77, 301 (2000).
• 3. M. Ishida, J. Fujita, T.Ogura, Y. Ochiai, E. Ohshima, and J. Momoda, Jpn. I Appl. Phys., 42, 3913 (2003).
• 4. K. Takeshi, R. Nakayama, and M. Ueda, Chem. Lett., 27, 865 (1998).
• 5. K. Young-Gil, J.B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki, and M. Ueda, J. Matter Chem., 12, 53 (2002).

タイトルに関連する用語 (6件)： 水車 ,  大環状化合物 ,  誘導体 ,  極端紫外線 ,  EUV ,  レジスト材料