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J-GLOBAL ID：201202210346331684   整理番号：12A1028255

SiO₂薄膜中の金ナノロッドの整列対に関するイオン照射による作製

The fabrication of aligned pairs of gold nanorods in SiO₂ films by ion irradiation

著者 (7件)： AWAZU Koichi (CAN-FOR, Tsukuba) ,  WANG Xiaomin (CAN-FOR, Tsukuba) ,  KOMATSUBARA Tetsuro (Univ. of Tsukuba, Tsukuba) ,  WATANABE Jun (Univ. of Tokyo, Tokyo) ,  MATSUMOTO Yuki (Univ. of Tokyo, Tokyo) ,  WARISAWA Shin’ichi (Univ. of Tokyo, Tokyo) ,  ISHIHARA Sunao (Univ. of Tokyo, Tokyo)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 20  号： 32  ページ： 325303 (7 PP.)  発行年： 2009年 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直径40または70nmの金ナノディスク対を,シリカ中に電子ビームリソグラフィーで作製した。110MeVのBr¹⁰⁺イオンによる照射で,これらナノディスクは伸びてナノロッドを形成した。この伸びは,イオンの伝搬方向で起こった。これら金ナノロッドのアスペクト比は,イオン束密度またはフルエンスの増大に伴って,また,ナノディスク直径の減少に伴って,増大した。この伸び機構を,熱スパイクモデルに基づいて説明した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： マトリックス【母体】 ,  薄膜 ,  *金 ,  *ナノロッド ,  アレイ ,  電子ビームリソグラフィー ,  *重イオン照射 ,  臭素 ,  100-1000MeV ,  伸び ,  熱スパイク ,  モデル ,  アスペクト比 ,  放射線束 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  イオン束 ,  ナノディスク

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N)

タイトルに関連する用語 (6件)： SiO2 ,  薄膜 ,  金ナノロッド ,  整列 ,  イオン照射 ,  作製