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J-GLOBAL ID：201202210529121247   整理番号：12A0248668

低圧O₂無線周波数放電プラズマ照射により誘起した貝割れ大根の成長促進

Growth Enhancement of Radish Sprouts Induced by Low Pressure O₂ Radio Frequency Discharge Plasma Irradiation

著者 (4件)： KITAZAKI Satoshi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KOGA Kazunori (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SHIRATANI Masaharu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  HAYASHI Nobuya (Saga Univ., Saga, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 1,Issue 2  ページ： 01AE01.1-01AE01.4  発行年： 2012年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低圧O₂無線周波数(RF)放電プラズマ照射により誘起した貝割れ大根(Raphanus sativus L)の成長促進を調べた。酸素プラズマ照射7日後の貝割れ大根の平均長は照射しないものよりも30~60%長かった。酸素プラズマ照射は種子発芽に影響を与えなかった。実験結果は酸素関連ラジカルが成長を大きく促進し,イオンと光子は促進しないことを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  *ダイコン ,  ラジカル ,  *成長促進
準シソーラス用語： RFプラズマ ,  *貝割れ大根 ,  放電プラズマ

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  発生,成長,分化  (EH02030U)

引用文献 (27件)：

• 1) N. Hayashi, W. Guan, S Tsutsui, T. Tomari, and Y. Hanada: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 8358.
• 2) N. Hayashi and Y. Yagyu: Trans. Mater. Res. Soc. Jpn 33 (2008) 791.
• 3) Helmke, D. Hoffmeister, N. Mertens, S. Emmert, J. Schuette, and W. Vioel: New J. Phys. 11 (2009) 115025.
• 4) R. Pomp, F. Jamitzky, T. Shimizu, B. Steffes, W. Bunk, H. U. Schmidt, M. Georgi, K. Ramrath, W. Stolz, R. W. Stark, T. Urayama, S. Fujii, and G. E. Morfill: New J. Phys. 11 (2009) 115020.
• 5) J. Lee, C. H. Shon, Y. S. Kim, S. Kim, G. C. Kim, and M. G. Kong: New J. Phys. 11 (2009) 115026.

タイトルに関連する用語 (7件)： 低圧 ,  O2 ,  無線周波数 ,  放電プラズマ ,  誘起 ,  貝割れ大根 ,  成長促進