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J-GLOBAL ID：201202213698790262   整理番号：12A1219610

X線自由電子レーザーの集束システムの開発

Development of Focusing System for X-ray Free Electron Laser

著者 (3件)： MIMURA Hidekazu (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  OHMORI Hitoshi (RIKEN, Saitama, JPN) ,  YAMAUCHI Kazuto (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 516  ページ： 251-256  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線自由電子レーザー(XFEL)集束システムは,長いサイズの集束鏡が必要である。ナノメートルレベル精度の面修正システムを確立した。集束鏡は,400mm長さの楕円の曲がった形を持つ。2nmのピークから谷高さの形状精度を達成した。Kirkpatrick Baez集束システムも設計し,日本のXFELの2次元集束のために開発した。長い鏡使用時,長い作動距離を,小さな集束ビームサイズで選択できるという事実のため,鏡は,XFEL装置で役立つだけでなく,現在の第3世代シンクロトロン放射施設でも使用でき,X線顕微鏡検査の進歩を約束する。解析のための種々のシステムを,資料の周りにセットできる。本研究の前に,長い鏡レンズの製作で2つの障害があった。最初は,曲面プロファイル測定の難しさであった。第2は,改善された生産効率の必要性であった。本報告では,これらの障害に対する効果的解決案を記述した。

シソーラス用語： *X線レーザ ,  *自由電子レーザ ,  ビーム集束 ,  放射光施設 ,  研削 ,  精密研削 ,  微粒子 ,  光学系 ,  集束 ,  レンズ ,  *鏡 ,  干渉測定 ,  *X線自由電子レーザ ,  EEM ,  ELID研削

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  その他のレーザ  (BD04090H)

タイトルに関連する用語 (3件)： X線自由電子レーザー ,  集束 ,  開発