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J-GLOBAL ID：201202213868596733   整理番号：12A1051610

マイクロマシン/MEMS展《東京大学/アドバンテストの集積MEMS研究のロングテール》ナノテクノロジー・プラットフォームと高速・多用途電子線描画装置の融合

著者 (1件)： 三田吉郎 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： Electronic Journal  (Electronic Journal)
号： 220  ページ： 82-83  発行年： 2012年07月15日 
JST資料番号： L5481A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 文部科学省は平成24年より,マイクロ・ナノ分野での新規素子研究開発に対する障害を取り除くことを目的に,ナノテクノロジー・プラットフォーム事業を開始したが,その動向をレポートした。筆者が拠点マネージャを務める,微細加工東京大学拠点は,超高速で,描画フィールドのつなぎ精度が非常に高い性能に加え,大面積(8インチ全面)からカケラ(1cm角)基板までの多様な基板に対して微細描画を行える,世界的に見てもユニークな電子線描画環境を公開利用に提供している。平成23年度の実績では,100名のユーザーが年間1591描画を行った。現在までに,実績として,60nmのライン&スペース,10nmの孤立ラインなどが報告されている。

シソーラス用語： マイクロマシン ,  *MEMS ,  ナノテクノロジー ,  *高速度 ,  *汎用性 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  クリーンルーム ,  微細加工 ,  誘導結合プラズマ ,  プラズマエッチング ,  集束イオンビーム

分類 (1件)： 集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (11件)： マイクロマシン ,  MEMS ,  東京大学 ,  集積 ,  研究 ,  ロングテール ,  ナノテクノロジー ,  プラットフォーム ,  用途 ,  電子線描画 ,  融合