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J-GLOBAL ID：201202217100225626   整理番号：12A1731430

角度低エネルギーHeイオン照射によって作製したグレーデッドビットパターン化磁気アレイ

Graded bit patterned magnetic arrays fabricated via angled low-energy He ion irradiation

著者 (5件)： CHANG L V (Univ. Houston, TX, USA) ,  NASRUALLAH A (Univ. Houston, TX, USA) ,  RUCHHOEFT P (Univ. Houston, TX, USA) ,  KHIZROEV S (Florida International Univ., FL, USA) ,  LITVINOV D (Univ. Houston, TX, USA)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 23  号： 27  ページ： 275705,1-4  発行年： 2012年07月11日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二成分の垂直磁気異方性分布のあるCo/Pd磁気多層に基づくビットパターン化磁気アレイをマグネトロンスパッタリング,電子ビームリソグラフィー,アルゴンミリング等を用いて作製した。二成分の異方性分布はビット端の角度付きヘリウムイオン照射によって達成した。本技法の実行可能性を数値的に調べ,作製したビットパターン化磁気アレイのスイッチング特性を測定して評価した。得られたグレーデッドビットパターン化磁気アレイの保磁力は35%低下し,スイッチング磁場の標準偏差は9%狭まった。

シソーラス用語： *イオン照射 ,  垂直磁気異方性 ,  スイッチング ,  *保磁力 ,  コバルト ,  パラジウム ,  多層膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  電子ビームリソグラフィー ,  *磁気記録
準シソーラス用語： スイッチング磁場 ,  *ビットパターン

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低エネルギー ,  He ,  イオン照射 ,  作製 ,  磁気 ,  アレイ