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J-GLOBAL ID:201202218607983278   整理番号:12A1711872

対称ジブロック及びトリブロック共重合体の指向性自己集合を通して作製した高分子ナノ構造の機械的特性

Mechanical properties of polymeric nanostructures fabricated through directed self-assembly of symmetric diblock and triblock copolymers
著者 (3件):
資料名:
巻: 30  号:ページ: 06F204-06F204-9  発行年: 2012年11月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ポリスチレンナノ構造の格子アレイを,ラメラ形成ポリ(スチレン-b-メタクリル酸メチル)ジブロック及びポリ(メタクリル酸メチル-b-スチレン-b-メタクリル酸メチル)トリブロック共重合体膜の化学パターンへの指向性集合,及び軟X線ブランケット曝露及び流体現像によるポリアクリル領域のその後の除去により作製した。格子のアスペクト比が臨界値あるいは崩壊の臨界アスペクト比(CARC)以上にあるとき,流体洗浄における毛管力により誘起された格子の崩壊を観測した。従来の高分子フォトレジストと著しく対照的に,ブロック共重合体で作製した格子のCARCは,LSの増加とともに単調に減少した。与えられたパターン周期(LS)に関して,ジブロック共重合体で作製したポリスチレン格子のCARCは,類似トリブロック共重合体で作製した格子のそれより大きかった。弾性カンチレバービーム曲げモデルを用いたCARCデータから計算した格子の見かけの弾性率は,LS/LO比の増大と共に単調に減少した(LOはブロック共重合体の自然ドメイン周期)。この結果を,自己集合ブロック共重合体膜で作製したナノ構造の鎖配座,線幅粗さ,及びドメイン形状における可能なLS依存変化により議論した。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  共重合  ,  高分子固体の力学的性質 

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